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揭示先進(jìn)封裝的未來:失效分析的挑戰(zhàn)和發(fā)展

先進(jìn)封裝技術(shù)給半導(dǎo)體行業(yè)帶來了變革,市場對更小、更快、更低能耗、更大算力的電子設(shè)備的需求驅(qū)動(dòng)了近年來先進(jìn)封裝的快速發(fā)展,它追求結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步微型化、更高集成度、更多功能性,以及更好的散熱控制。然而,這些先進(jìn)性也給失效分析帶來了新的挑戰(zhàn)。失效分析在識(shí)別和理解先進(jìn)封裝失效的根本原因中發(fā)揮了重要作用,這使廠商可采取適當(dāng)?shù)母倪M(jìn)措施以改善生產(chǎn)工藝、設(shè)計(jì)優(yōu)化、材料選擇,對提升良率、可靠性和產(chǎn)品性能非常關(guān)鍵。失效分析同時(shí)也可優(yōu)化測試和生產(chǎn)流程,減少返工和報(bào)廢,對成本減低做出重要貢獻(xiàn)?!?dāng)前先...

  • 2024

    9-9

    蔡司超景深顯微鏡是一種顯微成像設(shè)備,廣泛應(yīng)用于科研、工業(yè)檢測等領(lǐng)域。為了確保顯微鏡的性能和成像質(zhì)量,正確的安裝與校準(zhǔn)至關(guān)重要。一、安裝步驟選擇合適的安裝位置:先選擇一個(gè)穩(wěn)固、無振動(dòng)、光線適宜的地方作為安裝位置。確保周圍環(huán)境清潔,避免灰塵和雜物進(jìn)入顯微鏡內(nèi)部。放置顯微鏡:將顯微鏡放置在平穩(wěn)的工作臺(tái)上,調(diào)整腳螺旋,使顯微鏡處于水平狀態(tài)。確保重量分布均勻,以避免長期使用導(dǎo)致的變形或損壞。連接電源和光源:根據(jù)電源要求,連接合適的電源線。同時(shí),連接光源,確保光源正常工作。安裝目鏡和物鏡...

  • 2024

    9-9

    光學(xué)顯微鏡作為精密科學(xué)儀器,在制造業(yè)中扮演著重要的角色。通過利用光學(xué)原理放大微小物體,光學(xué)顯微鏡使人類能夠觀察到肉眼無法直接看到的細(xì)節(jié)。在制造業(yè)中,這一特性被廣泛應(yīng)用于質(zhì)量控制、產(chǎn)品研發(fā)、材料分析等多個(gè)環(huán)節(jié)。而蔡司作為光學(xué)顯微鏡領(lǐng)域的翹楚,其提供的光學(xué)顯微鏡材料解決方案更是為制造業(yè)帶來了便利與精準(zhǔn)。一、確保產(chǎn)品品質(zhì)的基石在制造業(yè)中,質(zhì)量控制是確保產(chǎn)品符合標(biāo)準(zhǔn)、滿足客戶需求的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。蔡司的光學(xué)顯微鏡,如Stemi305/508、SteREODiscovery等,憑借其高放大倍...

  • 2024

    9-3

    蔡司三維掃描儀,作為高精度光學(xué)測量的代表,其技術(shù)原理與優(yōu)勢在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出的魅力。技術(shù)原理上,蔡司三維掃描儀基于先進(jìn)的光學(xué)成像與計(jì)算機(jī)視覺技術(shù),通過投射特定光條紋或光斑到物體表面,并利用高清相機(jī)捕獲反射光線,形成多視角的圖像。這些圖像經(jīng)過復(fù)雜的計(jì)算機(jī)視覺算法和圖像處理技術(shù)處理,計(jì)算出每個(gè)像素點(diǎn)的深度信息,最終生成物體的三維模型。這一過程結(jié)合了光線投射、光線反射和圖像捕獲三個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié),確保了數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和完整性。在優(yōu)勢方面,蔡司三維掃描儀首先以非接觸式測量著稱,能夠在不接觸物體...

  • 2024

    8-29

    蔡司EVO掃描電子顯微鏡在工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,以下為您詳細(xì)介紹:材料分析:●金屬材料:對鋼鐵、有色金屬等進(jìn)行微觀形貌觀察,如分析金屬的晶粒尺寸、形狀、取向,研究金屬材料的組織結(jié)構(gòu)與性能關(guān)系;還可用于金屬材料的斷口分析,判斷斷裂方式(如韌性斷裂、脆性斷裂)和原因,為材料的改進(jìn)和質(zhì)量控制提供依據(jù)。例如,在汽車制造中,用于分析發(fā)動(dòng)機(jī)零部件的金屬材料微觀結(jié)構(gòu),優(yōu)化材料性能以提高發(fā)動(dòng)機(jī)的可靠性和耐久性。●陶瓷材料:能清晰觀察陶瓷材料的顆粒大小、分布、形狀,以及陶瓷材料的孔隙結(jié)構(gòu)、晶界等微...

  • 2024

    8-28

    蔡司X射線顯微鏡Xradia515Versa憑借其突破性技術(shù)和高分辨率探測器,將3DX射線顯微鏡(XRM)的性能提升至新的高度,為各種尺寸的樣品提供亞微米級(jí)成像解決方案。保持先進(jìn)的大樣品高分辨率技術(shù)優(yōu)勢的同時(shí),該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)高達(dá)500nm空間分辨率。該產(chǎn)品通過使用更高分辨率的光學(xué)元件,實(shí)現(xiàn)分辨率的改善和突破。與此同時(shí),該產(chǎn)品還加入了更多的智能的元素,并且具有更廣闊的拓展能力。兼容ART3.0高級(jí)重構(gòu)工具箱,利用AI技術(shù)提高成像效率或改善成像質(zhì)量。此外,Xradia515Vers...

  • 2024

    8-28

    以下是運(yùn)用蔡司X射線顯微鏡進(jìn)行電子器件高分辨無損三維檢測的一般步驟和要點(diǎn):一、樣品準(zhǔn)備:1、確保電子器件樣品干凈、干燥,無油污、灰塵等雜質(zhì),以免影響成像質(zhì)量。2、如果樣品尺寸較大,需檢查是否符合蔡司X射線顯微鏡的樣品尺寸要求,對于超出范圍的樣品可能需要進(jìn)行適當(dāng)切割或處理,但要注意避免對樣品造成額外損傷或改變其內(nèi)部結(jié)構(gòu)。3、對于一些特殊的電子器件,如含有易揮發(fā)或?qū)射線敏感的部件,需提前采取相應(yīng)的保護(hù)措施或進(jìn)行特殊處理。二、選擇合適的成像參數(shù):1、X射線能量:根據(jù)電子器件的材料...

  • 2024

    8-26

    蔡司顯微鏡在電子行業(yè)的多個(gè)領(lǐng)域具有顯著的應(yīng)用優(yōu)勢,以下為詳細(xì)介紹:●半導(dǎo)體制造:△晶圓檢測:在半導(dǎo)體晶圓的生產(chǎn)過程中,蔡司顯微鏡可用于檢測晶圓表面的缺陷、顆粒污染、劃痕等問題。例如,通過高分辨率的成像,可以清晰地觀察到晶圓表面微小的瑕疵,幫助提升晶圓的質(zhì)量和成品率。半導(dǎo)體企業(yè)英特爾(Intel)在芯片制造過程中,會(huì)使用蔡司顯微鏡對晶圓進(jìn)行檢測。比如在光刻環(huán)節(jié)后,利用蔡司顯微鏡檢查晶圓上的圖案是否符合設(shè)計(jì)要求,包括線條的寬度、間距以及圖案的完整性等,確保芯片的功能和性能。△芯片...

  • 2024

    8-2

    蔡司X射線顯微鏡作為高精度三維成像技術(shù)的代表,在科學(xué)研究和技術(shù)應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。其原理與應(yīng)用可以概括如下:原理蔡司X射線顯微鏡利用X射線的強(qiáng)穿透性和短波長特性,結(jié)合的成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)的高精度三維成像。其關(guān)鍵部件包括X射線源、探測器以及成像和放大元件。X射線源發(fā)射出高強(qiáng)度的X射線,穿透樣品后,不同部位對X射線的吸收率不同,從而在探測器上形成不同的灰度圖像。通過多角度成像和計(jì)算機(jī)重構(gòu)技術(shù),可以還原出樣品內(nèi)部的三維結(jié)構(gòu)。此外,蔡司X射線顯微鏡還采用光學(xué)+幾何兩級(jí)放大...

  • 2024

    7-23

    LSM900共聚焦顯微鏡是一種熒光顯微鏡技術(shù),它通過激光掃描的方式,逐層掃描樣品并收集熒光信號(hào),生成高分辨率的三維圖像。這種顯微鏡在生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。一、操作原理核心操作原理包括以下幾個(gè)方面:激光掃描:使用激光作為光源,通過掃描裝置對樣品進(jìn)行逐層掃描。激光束通過物鏡聚焦在樣品上,激發(fā)出樣品的熒光信號(hào)。熒光檢測:激發(fā)出的熒光信號(hào)被探測器接收,經(jīng)過放大和處理后,生成與樣品結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的圖像。三維成像:通過逐層掃描和熒光檢測,可以重建樣品的三維結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)...

  • 2024

    7-23

    一、高襯度的低電壓VC(voltagecontrast)成像蔡司Gemini電子光學(xué)技術(shù)擁有優(yōu)異的低電壓成像能力,能獲得準(zhǔn)確的電壓襯度(PVC)圖像,用于快速的失效定位?!鳶RAM區(qū)域的電壓襯度圖像二、有利于電性表征的不漏磁光學(xué)系統(tǒng)蔡司Gemini鏡筒可實(shí)現(xiàn)不漏磁的超低電壓成像,是納米探針(nanoprobing)測試的理想平臺(tái)。具備3nm制程的測試能力,且能實(shí)現(xiàn)低至100eV的SEM實(shí)時(shí)成像,極大地降低電子束輻照損傷?!?0V加速電壓下成像,SRAM區(qū)域和八根納米探針三、創(chuàng)...

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